(PDMS/Au/PDMS)三層薄膜引發微波紋的形成及機制

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題名:	(PDMS/Au/PDMS)三層薄膜引發微波紋的形成及機制
其他題名:	Formation and Mechanism for Induced Microwave Patterns by 3 Layers(PDMS/AU/PDMS) Films
作者:	林清彬
貢獻者:	淡江大學機械與機電工程學系
關鍵詞:	聚二甲基矽氧烷;漣漪;皺波;拉伸;應變回復;挫曲
日期:	2007
上傳時間:	2009-03-16 16:01:36 (UTC+8)
摘要:	本研究提出新穎製程來製得漣漪結構，首先將在矽晶片上塗佈一層聚二甲基矽氧烷(PDMS)薄膜給予拉伸及固定應變後，於薄膜表面濺鍍沈積一層金鍍層；經應變回復後於薄膜表面形成漣漪結構。另外，大面積漣漪結構在薄膜表面形成過程中，會在PDMS 彈性薄膜內強度較弱之分子鏈結構與缺陷處，產生類差排、裂痕及排向表面裂縫等缺陷。本研究第一年也探討拉伸應變、金鍍層厚度與應變回復量對漣漪結構、波長和振幅之影響。另外，本研究亦嘗試在PDMS 彈性薄膜表面成型出微流道浮雕(Base-relief)，施予雙軸向拉伸後，以治具給予拘束固定，經鍍金後進行應變回復，使其於微流道兩側得到漣漪結構。研究中我們也使用挫曲機械力學計算俱週期漣漪結構的薄膜之楊氏係數。本研究第二年探討PMDS/Au/PDMS 三層薄膜給予拉伸及固定應變後，經應變回復後，探討PMDS/Au/PDMS 三層薄膜的挫曲現象，並提出一套機制與模型探討三層薄膜在未發生界面撥離的狀況下產生挫曲現象所須之週期漣漪結構的臨界波長、臨界壓縮應變及臨界壓縮應力。
顯示於類別:	[機械與機電工程學系暨研究所] 研究報告

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