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    Title: 具高效能紫外光遮蔽性之有機/無機奈米複合薄膜的製備
    Other Titles: Preparation of Organic-Inorganic Nanocomposite Film with High UV-Shielding Performance
    Authors: 張正良
    Contributors: 淡江大學化學工程與材料工程學系
    Keywords: 有機/無機混成材料;紫外光遮蔽薄膜;配位化合物;二氧化鈦
    Date: 2005
    Issue Date: 2009-03-16 15:17:11 (UTC+8)
    Abstract: 近年來隨著臭氧層被破壞,人類受到紫外線傷害而產生的疾病已日趨嚴重, 如皮膚紅斑、黑化、皮膚癌,白內障以及免疫系統機能降低等,因此在臭氧層尚 未重建之前,對阻隔紫外線產品的研究有其必要性。 目前製作紫外光遮蔽薄膜,多採用添加無機類防紫外線添加劑於材料中,主 要是利用半導體材料價帶與傳導帶之間電子的躍遷吸收紫外光,如二氧化鈦、二 氧化鈰等皆可吸收紫外光。此類材料除因具有較高之光催化能力與折射率,容易 造成有機材料產生光催化降解,且由於薄膜之折射率與基材之折射率相差太大, 會有嚴重的光干擾現象,造成反射光太強且透光率不足,此外分散性不良、紫外 光遮蔽範圍狹窄等問題,都使得其在應用上有許多限制。 本研究計畫採用有機/無機混成方式製作紫外光遮蔽薄膜,有機部份為聚胺 基甲酸酯(PU),無機部份為二氧化鈦,但與一般不同:本研究使用溶膠-凝膠法, 製備奈米無機材料,經PU 結構的設計與偶合劑的添加,增加二氧化鈦的添加量 及分散性。藉由添加螯合劑,使其與鈦金屬形成配位化合物,利用金屬與配位基 之間的電荷轉移吸收紫外光。此方法最大的優點在於:製得之材料可為非結晶形 態,因此可大幅增加紫外光吸收範圍,製得之材料具有較低之光催化能力,且具 有較低之折射率,可降低薄膜與基材間光干擾的問題,並具有較大紫外光吸收範 圍,且結合有機與無機材料個別的優點,使得材料具有更好的機械性質。
    Appears in Collections:[化學工程與材料工程學系暨研究所] 研究報告

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