消除硅晶片加工后表面残留应力的热处理装置

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题名:	消除硅晶片加工后表面残留应力的热处理装置
其它题名:	消除矽晶片加工後表面殘留應力的熱處理裝置
作者:	趙崇禮;张毅;林宏彝
贡献者:	淡江大學機械與機電工程學系
日期:	2000-02-09
上传时间:	2011-05-20 15:35:27 (UTC+8)
摘要:	一种消除硅晶片加工后表面残留应力的热处理装置，该装置包括有绝缘外层、晶片支撑盘、红外线光源及石英管，该绝缘外层上设有进气口及出气口，晶片支撑盘、红外线光源及石英管设置于绝缘外层内部，晶片支撑盘位于石英管内，红外线光源设于石英管上、下方；用此装置可利用热处理（退火）程序来去除硅晶片在加工过程中所产生的残留应力，用以取代传统加工过程中以化学腐蚀的方式来去除残留应力。一種消除矽晶片加工後表面殘留應力的熱處理裝置，該裝置包括有絕緣外層、晶片支撐盤、紅外線光源及石英管，該絕緣外層上設有進氣口及出氣口，晶片支撐盤、紅外線光源及石英管設置於絕緣外層內部，晶片支撐盤位於石英管內，紅外線光源設於石英管上、下方；用此裝置可利用熱處理（退火）程序來去除矽晶片在加工過程中所產生的殘留應力，用於取代傳統加工過程中以化學腐蝕的方式來去除殘留應力。
显示于类别:	[機械與機電工程學系暨研究所] 專利

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