| 摘要: | 本研究採用引用文獻分析法，探討半導體文獻中，高生產作者自我引用的情況，並比較同時法（Synchronous）與歷時法（Diachronous）自我引用的差異。本研究高生產力作者的數據來自於國科會研究報告「半導體文獻之書目計量學研究（一）」。同時法自我引用率，是指某篇文獻在其所附的參考書目中，引用了作者自己先前作品的比率；歷時法自我引用率，則是指文獻自出版之後，被引用的情形當中，出自於作者自己所引用的比率。作者選定生產力前五十四名為研究對象，利用科學引用文獻索引（Science Citation Index）資料庫檢索作者的引用、被引用及自我引用數據，再分別計算每一位作者的自我引用率。本研究結果歸納如下：一、作者同時法自我引用率分佈介於3.64%~23.22%，歷時法自我引用率則分佈於0.12%~33.78%；二、作者的同時法自我引用率分佈較歷時法自我引用率集中；三、被引用量越高的作者，歷時法自我引用率越低；四、半導體文獻高生產力作者的歷時法自我引用率，無法顯示作者的「自我中心主義」；五、同時法自我引用率越高，作者的排名越前面；六、半導體文獻高生產力作者的兩種自我引用率未達顯著差異。 |