English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 60696/93562 (65%)
造訪人次 : 1054059      線上人數 : 40
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library & TKU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋
    請使用永久網址來引用或連結此文件: https://tkuir.lib.tku.edu.tw/dspace/handle/987654321/119545


    題名: UV/H2O2及UV/SPS分解含四環素水溶液之反應行為研究
    作者: 黃上權;陳俊成;申永順
    關鍵詞: 高級氧化程序;過氧化氫;過硫酸鹽;四環素
    日期: 2020-11-27
    上傳時間: 2020-11-11 12:12:03 (UTC+8)
    摘要: 本次研究應用UV/H2O2及UV/SPS程序分解含四環素水溶液,對不同反應時間點之四環素去除率以HPLC分析,比較不同操作條件,並研究最佳四環素去除率。實驗結果顯示反應60分鐘後,四環素皆能達到100%去除,然UV/SPS系統之整體去除效率皆優於UV/H2O2系統。光強度於兩種氧化程序皆呈現強度愈強其去除四環素效果愈佳之趨勢,顯示提高UV光穿透水溶液之能力可更快促使氧化劑產生自由基以去除污染物。四環素初始濃度影響著UV光催化氧化劑之能力,高濃度的四環素間接導致氧化劑之催化反應受阻,使四環素之去除效率下降。pH於AOPs降解四環素中扮演著重要角色,研究結果顯示,利用UV/H2O2與UV/SPS系統降解四環素在pH為9之環境較為適宜。
    顯示於類別:[水資源及環境工程學系暨研究所] 會議論文

    文件中的檔案:

    檔案 大小格式瀏覽次數
    index.html0KbHTML55檢視/開啟

    在機構典藏中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    TAIR相關文章

    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library & TKU Library IR teams. Copyright ©   - 回饋