English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 64178/96951 (66%)
造訪人次 : 9385429      線上人數 : 240
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library & TKU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧：
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號"，以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋，建議至進階搜尋限定作者欄位，可獲得較完整資料
    •  進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: https://tkuir.lib.tku.edu.tw/dspace/handle/987654321/119544


    題名: Fenton及Photo-Fenton分解含四環素水溶液之反應行為研究
    作者: 黃上權;陳俊成;申永順
    關鍵詞: 高級氧化程序;過氧化氫;四環素;Fenton
    日期: 2020-11-27
    上傳時間: 2020-11-11 12:12:01 (UTC+8)
    摘要: 高級氧化處理(AOPs)在環境污染物處理上之應用已相當成熟，常用以處理生物難降解有機物，本次研究應用Fenton及Photo-Fenton程序分解含四環素水溶液，對不同反應時間點之四環素去除率以HPLC分析，比較不同操作條件，並研究最佳四環素去除率。實驗結果顯示當氧化劑劑量足夠時，反應10至20分鐘即可達到完全降解，並且Photo-Fenton系統之整體去除效率皆優於Fenton系統。光強度於Photo-Fenton程序皆呈現強度愈強其去除四環素效果愈佳之趨勢，但是並沒有太明顯的差異。四環素初始濃度影響著UV光催化氧化劑之能力，高濃度的四環素除了會產生光遮蔽效應，還會減少氧化劑與鐵離子的碰撞反應，間接導致氧化劑之催化反應受阻，使四環素之去除效率下降。pH於Fenton及Photo-Fenton系統降解四環素中扮演著重要角色，實驗結果顯示，當pH2.5上升至pH5，四環素降解率隨之提升。
    顯示於類別:[水資源及環境工程學系暨研究所] 會議論文

    文件中的檔案:

    檔案 大小格式瀏覽次數
    index.html0KbHTML150檢視/開啟

    在機構典藏中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    TAIR相關文章

    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library & TKU Library IR teams. Copyright ©   - 回饋